我們的優(yōu)勢｜離子束刻蝕

NANO-MASTER的離子束刻蝕系統(tǒng)有很強的適應(yīng)性，可以根據(jù)不同的應(yīng)用建立不同的結(jié)構(gòu)，不同的樣品臺和離子源配置可實現(xiàn)不同的應(yīng)用范圍。系統(tǒng)中的樣品臺可實現(xiàn)正負90°傾斜、旋轉(zhuǎn)、水冷和背氦冷卻。NM成熟的技術(shù)可控制基片溫度在50℃以內(nèi)。通過傾斜和旋轉(zhuǎn)，深溝可切成斜角，通過控制側(cè)壁輪廓和徑向可提高均勻性，不同的構(gòu)造不同的應(yīng)用可選擇不同的選配項，也可增加濺射實現(xiàn)刻蝕之后的涂覆保護。應(yīng)用十分廣泛。

NANO-MASTER的離子束刻蝕在行業(yè)中非常有競爭力，它憑什么可以這樣脫穎而出呢？

1. 計算機全自動工藝控制，具有高度的可重復(fù)性；

2. 菜單式設(shè)計，支持四級密碼授權(quán)訪問控制，支持不限數(shù)量的工藝程序，每一個工藝程序支持1-100個工藝步驟，操作方便；

3. 高均勻性刻蝕，6"片刻蝕均勻性優(yōu)于+/-3%；

4. 支持垂直刻蝕和斜齒刻蝕；

5. 分子泵與工藝腔體采用直連設(shè)計，具有z佳的真空傳導率，8小時可以達到6x10-7Torr的高工藝真空，15分鐘內(nèi)達到10-6Torr量級的真空；

6. 通過計算機控制分子泵的渦輪速度，直接調(diào)節(jié)分子泵的渦輪速度，從而實現(xiàn)下游壓力的全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定；

7. 刻蝕工藝優(yōu)化，防止被刻蝕的光刻膠被碳化而導致后續(xù)的去膠困難；

8. 緊湊型設(shè)計，節(jié)省占地空間，整個設(shè)備的主機占地面積僅26"x44"；

9. 關(guān)鍵核心組件帶水冷保護，長期穩(wěn)定。

此外，NANO-MASTER鄭重承諾客戶，由我司出售的儀器均可獲得終身的售后維修服務(wù)和穩(wěn)定的零配件供應(yīng)。為更高效、便捷地為您提供售后服務(wù)，我們在上海設(shè)立辦公處，NM售后服務(wù)工程師會竭誠為您提供優(yōu)質(zhì)、可靠的本地化服務(wù)。